# Public tenders Canonical results: https://zephior.com/fr/tenders?countries=SE&categories=semiconductor-processing-equipment 1 matching notices. Page 1. Filter semantics: OR within a filter, AND across filters and text search. Omitted statuses use active defaults; [] includes all statuses. --- title: "Système de gravure ionique réactive profonde (DRIE)" canonical: "https://zephior.com/fr/tenders/f1bb76ed-b514-41c0-a82b-352898f8824e/systeme-de-gravure-ionique-reactive-profonde-drie" last-updated: 2026-10-13T07:41:04.176933+00:00 --- # Système de gravure ionique réactive profonde (DRIE) L’Université d’Uppsala recherche pour Myfab Uppsala un système de gravure ionique réactive profonde pour le transfert de motifs en microfabrication. L’équipement doit traiter des motifs de l’échelle du substrat à quelques nanomètres et convenir à de nombreux opérateurs en laboratoire malgré les changements fréquents de procédé. Les capacités visées incluent différentes vitesses de gravure, le découpage de plaquettes, une forte uniformité, une grande surface ouverte et des rapports d’aspect élevés. Il est prévu pour le silicium et les matériaux compatibles, avec résines photosensibles ou masques durs. TED indique une estimation de 1 SEK sans en expliquer la base nominale. Échéance : 10 novembre 2026 à 00 h 00 UTC+01:00. - Status: open - Country: SE - Buyer: Uppsala universitet - Submission deadline: 2026-11-10T00:00:00+01:00 (instant) - Original notice: https://ted.europa.eu/en/notice/-/detail/693624-2026 - Source checked: 2026-10-13T07:32:50.834720Z ## Source-backed public facts ```json { "id": "f1bb76ed-b514-41c0-a82b-352898f8824e", "revision": 1, "modifiedAt": "2026-10-13T07:41:04.176933+00:00", "sourceCheckedAt": "2026-10-13T07:32:50.834720Z", "stale": false, "url": "https://zephior.com/fr/tenders/f1bb76ed-b514-41c0-a82b-352898f8824e/systeme-de-gravure-ionique-reactive-profonde-drie", "locale": "fr", "title": "Système de gravure ionique réactive profonde (DRIE)", "summary": "L’Université d’Uppsala recherche pour Myfab Uppsala un système de gravure ionique réactive profonde pour le transfert de motifs en microfabrication. 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